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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心材料表征與鑒定表征系統(tǒng)Stabino_Particle Met顆粒電位滴定及粒度分析儀

顆粒電位滴定及粒度分析儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

顆粒電位滴定及粒度分析儀
分散體中,同性帶電離子的靜電排斥作用是分散體避免凝聚保持穩(wěn)定的主要原因,故帶電粒子界面的表征是*的。當(dāng)顆粒離子化后,總電荷和電荷密度是需要知道的重要參數(shù)。電荷測(cè)量是通過建立動(dòng)電信號(hào)來完成的。

產(chǎn)品型號(hào):Stabino_Particle Met

更新時(shí)間:2024-08-19

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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顆粒電位滴定及粒度分析儀

顆粒電位滴定及粒度分析儀

通過使用stabino,可實(shí)現(xiàn)快速便捷的顆粒的電位滴定測(cè)試。

分散體中,同性帶電離子的靜電排斥作用是分散體避免凝聚保持穩(wěn)定的主要原因,故帶電粒子界面的表征是*的。當(dāng)顆粒離子化后,總電荷和電荷密度是需要知道的重要參數(shù)。電荷測(cè)量是通過建立動(dòng)電信號(hào)來完成的。

根據(jù)不同的測(cè)量原理,有電泳法,電聲法zeta電位,以及stabino測(cè)試所得的流動(dòng)電位。這些是zui經(jīng)常被提到的電位參數(shù),來源于作用在顆粒界面雙電層上離子云的剪切力,如圖1。所有這些被測(cè)變量都與位于剪切面的顆粒界面電位(PIP)即zeta電位成正比關(guān)系。為了建立界面電位,要么通過電泳法或電聲法建立的電場(chǎng),要么通過機(jī)械應(yīng)力作用于流動(dòng)電位和電聲法儀器。通過這樣做,來源于溶液中的外部松散附著的離子被帶走,顯露出可被直接測(cè)量的界面電位。

電位滴定的目的

根據(jù)不同的粒徑區(qū)間,可通過Smoluchowski, Henry’s 等公式計(jì)算zeta電位。要想正確的計(jì)算zeta電位,粒徑范圍是需要特別注意的。特別是在100nm以下的粒徑范圍內(nèi),關(guān)于zeta電位的正確計(jì)算方法,目前學(xué)術(shù)界還存在著爭(zhēng)議。究竟得到一個(gè)的數(shù)值對(duì)于現(xiàn)實(shí)是否必要,這也是存在疑問的。此外,某一個(gè)點(diǎn)的zeta電位值并不能清楚的描述整個(gè)樣品體系。界面電位總是依賴于離子環(huán)境,嚴(yán)格的講,如果沒有所處的離子環(huán)境,那么粒子的界面電位也就無從談起。

PH值的微小變化都可能導(dǎo)致顏料懸浮體變的不穩(wěn)定,盡管它之前的zeta電位很高。因而,深入研究zeta電位對(duì)滴定物的滴定曲線是非常有價(jià)值的。這些滴定物質(zhì)可以是酸堿性物質(zhì),離子型表面活性劑或聚電解質(zhì)。說到這,很多有價(jià)值的結(jié)果都可以通過電位滴定得到,有的可用于識(shí)別懸浮液的穩(wěn)定和不穩(wěn)定區(qū)域,有的用于表征導(dǎo)致聚合或顆粒反應(yīng)的凝聚劑或催化劑的用量。

測(cè)量流動(dòng)電流電位

通過驅(qū)動(dòng)活塞在圓筒中做上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)(如圖2),圓筒壁和活塞間隙中的液體會(huì)上下發(fā)生流動(dòng)。作用在固定顆粒界面上的剪切力,會(huì)導(dǎo)致顆粒的離子云發(fā)生轉(zhuǎn)移。這些固定的顆粒,有的是因?yàn)榇蠓肿踊蛐☆w粒對(duì)器壁的粘附,有的是因?yàn)榇箢w粒的惰性所致。在樣品底部平靜的區(qū)域,幾乎沒有離子的位移。因而,就可以獲取到圓筒底部和較高部位的振蕩信號(hào)。

多功能

流動(dòng)電位測(cè)試法所適用粒徑范圍,表明流動(dòng)電位是zui通用的方法,0.3nm的大分子溶液和300μm的顆粒懸浮液或乳液都可以用流動(dòng)電位法來測(cè)定。該方法允許的導(dǎo)電性范圍從零至50mS/cm,樣品濃度范圍從0.01至10vol%或更高。粘度的上限為300mPas。在此粘度下,將滴定液混入樣品的有效性是存在問題的。除了樣品和滴定液的濃度外,無需其他樣品參數(shù)。zui后但同樣重要的是,如果zeta電位是非常重要的,在許多 應(yīng)用中,流動(dòng)電位乘以常數(shù)因子就可以校正為zeta電位。

流動(dòng)電位用于電荷滴定的高效

stabino在一臺(tái)儀器上具備了混和,均化和信號(hào)測(cè)試的功能,使其滴定測(cè)試更為簡(jiǎn)單有效。通常一個(gè)典型的滴定循環(huán)需要5-15分鐘。

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